原标题：又一芯片巨头取得重大突破！7nm级芯片成功流片：IP纯国产化 来源：腾讯新闻
【10月27日讯】相信大家都知道，全球主要芯片代工市场份额一直都被台积电、三星所瓜分，其中台积电作为全球实力最强芯片代工巨头，更是占据着全球超过50%+以上芯片代工市场份额，而三星的芯片代工市场份额也占到了接近25%左右，其实台积电、三星之所以能够如此强大，也是因为台积电、三星是全球唯二可以量产7nm芯片厂商，同时台积电目前还是实现了5nm芯片量产，三星也将在2020年底实现5nm芯片量产；
确实我们可以从全球主流芯片厂商的工艺流程表可以看出，目前我们中国大陆最好的成绩是14nm工艺，即便是Intel也在2020年才进入到10nm工艺时代，当然一直停留在10nm工艺多年的格芯、联电，早已经停止对先进工艺制程技术研发，将自家芯片制造工艺水准一直保持在10nm水平。
就在近日，我们的中国芯再次传来了好消息，芯动科技正式表示：“全球首款基于中芯 FinFET N+1先进工艺芯片流片成功，并且所有IP都实现了国产化。” 这对于我们国产芯片产业而言，可以说是一个非常重大的突破，因为我们真的可以造出属于我们的7nm级别芯片了，正式跻身于全球高端芯片阵营之中。
为何说N+1工艺是7nm级别芯片呢？
因为此前中芯国际就曾对外公布，N+1工艺相对于14nm 工艺，整体升20%，功耗降低57%，逻辑面积缩小了63%，SoC面积减少了55%，按照这样的技术指标，整体性能与台积电7nm工艺相差无几，完完全全可以被视为是7nm级别的芯片。
要知道中芯国际量产7nm级别芯片以前，我国在整个芯片产业链三大环节中，芯片设计、芯片封测早已经可以达到目前顶尖5nm工艺水准，唯独芯片制造一直停留在14nm级别，如今正式在芯片制造工艺上取得突破，直接从14nm芯片时代跨入到7nm芯片时代，这是国产芯片一个非常重大的技术突破；
最后：对于我们国产芯片制造也正式进入到了7nm时代，各位小伙伴们，你们觉得我们离5nm芯片还远呢？欢迎在评论区中留言讨论，期待你们的精彩评论！
