投资者提问：
董秘您好，贵司官网产品展示中的一款光刻机产品“ 高速激光图形化直写设备 iGrapher200/iGrapher820“的分辨率达355nm，想请问一下这是不是贵司目前最高的工艺水平？最近报道上海微电子已经研制出28nm的光刻机，贵司在光刻机上面难道就没有更高水准的研发动作了吗？
董秘回答(苏大维格SZ300331)：
您好，355nm为iGrapher200设备所使用的光源波长。您所提及的上海微电子所研制的28nm光刻机，据我们了解是用于芯片制造的投影光刻机，而本公司的直写光刻机与用于集成电路的投影光刻机不同，直写光刻机用于从计算机模型数据文件到微纳实际结构的制备，两者属于光刻技术领域中两种不同种类和应用的光刻机。未来公司将根据光电产业的发展需要，持续进行光刻技术和光刻设备的更新迭代。感谢您的关注！
免责声明：本信息由新浪财经从公开信息中摘录，不构成任何投资建议；新浪财经不保证数据的准确性，内容仅供参考。
