投资者提问：公司产品是否可用于光刻机？7nm以下的制程是否实现国产替代？

董秘回答(新莱应材SZ300260)：

您好，光刻机领域根据结构图纸是有机会可以使用到我司的真空系统产品，我们也一直努力试图跟 ASML 接触，同时也希望能透过真空技术与国内其他厂家配合制作科研级光刻机并逐步推展到半导体市场。7nm以下的制程是否实现国产替代这个我们不是很了解，但我们的产品可以用于 7nm 以下的干式刻蚀制程。 感谢您对公司的关注，谢谢。