观点网讯：11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在国家会展中心（上海）举行，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型在展会上正式亮相，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。
本次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线，高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控。
据IT之家消息，目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆。多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%。
据测算，可将生产效率提升约35%。
据IT之家介绍，SMEE成立于2002年3月，位于上海，隶属上海电气集团，注册资本约2.66亿元人民币，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商。
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