阿斯麦称High NA EUV首次进入高产量逻辑芯片生产

阿斯麦9月1日透露，其High NA EUV（高数值孔径极紫外光刻）平台首次用于高产量逻辑芯片产品，标志着0.55 NA光刻技术从认证阶段迈向生产应用。