涟花智砚OB26133MPA集成电路布图设计获国家知识产权局公告

近日，国家知识产权局集成电路布图设计专有权公告信息显示，涟花智砚（广州）有限公司提交的名为OB26133MPA的集成电路布图设计正式获得国家知识产权局的布图设计专有权公告，标志着该企业在自主集成电路核心设计领域的创新成果获得官方权威认定。此次布图设计专有权的获批，将为涟花智砚（广州）有限公司的相关芯片产品落地应用筑牢知识产权保护屏障，进一步强化其在细分半导体赛道的核心竞争力。

从本次公开的公告细节来看，本次公告的发布时间与公告日期一致，均为2026年11月13日，对应布图设计的登记号为BS.265585570，该设计于2026年5月14日正式向国家知识产权局提交登记申请，最终以99444号公告完成专有权公示。本次获公告的布图设计全称为OB26133MPA，专有权归属涟花智砚（广州）有限公司所有，公开信息中未披露该布图设计的具体创作人信息，该设计早在2025年5月7日就已创作完成，后续于2025年10月10日完成首次商业利用，是一款经过实际场景落地验证的成熟集成电路设计成果。

天眼查数据显示，涟花智砚（广州）有限公司成立日期2019年2月2日，法定代表人林国炜，所属行业为计算机、通信和其他电子设备制造业，企业类型为有限责任公司(外商投资企业法人独资)，企业规模为小型，参保人数25人，注册资本10000万人民币，实缴资本10000万人民币，注册地址为广州市黄埔区莲花砚路1号A栋23楼。股东信息如下：

综合点评
本次涟花智砚的集成电路布图设计获官方专有权认定，是其自主研发实力的权威佐证。该成果已完成商业落地验证，既为后续相关芯片产品筑牢知识产权防护墙，也能有效强化其在半导体细分赛道的核心竞争力，为这家小型外商独资企业的技术商业化推进提供坚实支撑。