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艾森半导体等4家公司共同申请光刻胶组合物相关专利,该光刻胶适配微凸块电铸的高精细图案化

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11月4日消息,国家知识产权局信息显示,江苏艾森半导体材料股份有限公司、艾森半导体材料(南通)有限公司、南通艾森芯材科技有限公司、泰兴艾森芯耀科技有限公司申请一项名为“微凸块用厚膜正性化学放大光刻胶组合物及其图案化方法”的专利。申请公布号为CN123029749A,申请号为CN202611494908.1,申请公布日期为2026年11月3日,申请日期为2026年9月23日,发明人王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、黄丞、吴滢骅,专利代理机构苏州尚为知识产权代理事务所(普通合伙),专利代理师孙志伟,分类号G03F7/039、G03F7/38、G03F7/40、G03F7/32、G03F7/20、G03F7/004、C08F220/18、C08F220/20。

专利摘要显示,本发明涉及半导体先进封装用光刻胶材料技术领域,具体涉及微凸块用厚膜正性化学放大光刻胶组合物及其图案化方法。该光刻胶组合物按重量份计包含:酸敏聚合物100份、光致产酸剂3‑15份、酸扩散控制剂0.1‑3份、溶剂300‑800份及添加剂。其中酸敏聚合物为包含酸不稳定基团的(甲基)丙烯酸酯单体40‑70mol%、含极性基团的(甲基)丙烯酸酯单体10‑30mol%和紫外高透过性单体20‑40mol%的三元共聚丙烯酸树脂;酸扩散控制剂由光碱和弱酸铵盐复配组成。该光刻胶在20‑40μm膜厚下可实现5μm分辨率,侧壁角大于88°,显影无溶胀,感光度≤300mJ/cm²,适用于节距≤30μm的微凸块电铸工艺。

艾森股份是国内领先的电子化学品领域专精特新企业,专注于先进封装及晶圆制造用电子化学品研发,具备深厚技术壁垒。公司成立于2010年3月26日,于2023年12月6日登陆上海证券交易所,注册地与办公地均位于江苏省。

公司主营电子化学品的研发、生产和销售业务,从申万行业分类来看归属于电子-半导体-半导体材料赛道,同时覆盖集成电路、中芯国际概念、半导体材料三大热门概念板块。

2026年三季度,艾森股份实现营业收入5.65亿元,在所属半导体材料行业30家可比公司中排名第23位,当期行业营收第一名有研新材达84.62亿元、第二名雅克科技为67.21亿元,行业平均营收17.95亿元,行业中位数为9.67亿元;同期公司实现净利润4443.82万元,行业排名第24位,当期行业净利润榜首雅克科技录得9.34亿元、第二名江丰电子为7.09亿元,行业平均净利润1.44亿元,行业中位数为8828.74万元。

指标类型 当期数值 行业排名/总家数 行业头部企业数值 行业平均数 行业中位数
营业收入 5.65亿元 23/30 有研新材84.62亿元、雅克科技67.21亿元 17.95亿元 9.67亿元
净利润 4443.82万元 24/30 雅克科技9.34亿元、江丰电子7.09亿元 1.44亿元 8828.74万元

江苏艾森半导体材料股份有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1微凸块用厚膜正性化学放大光刻胶组合物及其图案化方法发明专利发明专利申请公布、公布CN202611494908.12026-09-23CN123029749A2026-11-03王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、黄丞、吴滢骅
2一种含抗渗透剂的负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、发明专利申请公布、公布CN202611288914.12026-08-24CN122902166A2026-10-13吴滢骅、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、王玉龙、黄丞、刘超、张威
3一种负性光刻胶组合物及其应用、电镀图形的形成方法发明专利发明专利申请公布、公布CN202611288848.82026-08-24CN123010336A2026-10-30安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、张威、吴滢骅、王玉龙、黄丞、刘超
4一种直流电镀纳米孪晶铜的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610722094.62026-05-25CN122406316A2026-07-17张坤、张兵、向文胜、赵建龙
5一种用于制备纳米孪晶铜的电镀液以及电镀方法发明专利公布CN202610721721.42026-05-25CN122446292A2026-07-24张坤、张兵、向文胜、赵建龙
6酸性锌活化剂、铝基基材的活化方法和Wafer化学镍钯金工艺发明专利实质审查的生效、公布CN202610560238.22026-04-24CN122406200A2026-07-17王韵、张兵、向文胜、赵建龙、陈春
7一种闪蚀液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202610479278.42026-04-13CN122081949A2026-05-26蔡洁、张兵、向文胜、胡青华、王元元
8聚对羟基苯乙烯的制备方法、聚对羟基苯乙烯及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202610107816.72026-01-27CN121949659A2026-05-01吴华宇、张兵、向文胜、赵建龙、张威
9正性化学放大光刻胶组合物、微图形结构及制备方法发明专利公布CN202610068237.62026-01-19CN121657366A2026-03-13张威、张兵、向文胜、赵建龙、安杨翔、王玉龙
10负性感光树脂组合物、微结构、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511829933.62025-12-05CN121454866A2026-02-03张威、张兵、向文胜、赵建龙、刘铖铠、安杨翔
11电镀液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511770435.92025-11-28CN121321130A2026-01-13陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟
12正性化学放大型光刻胶及其制备方法、使用方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511696754.X2025-11-19CN121232531A2025-12-30王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、黄丞、吴滢骅
13一种正性光刻胶组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511428021.82025-09-30CN121187074A2025-12-23霍建辉、张兵、向文胜、赵建龙、陆晓健、袁会芳、周浩杰、李双庆、董仲舒
14一种正性光刻胶组合物及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511396221.X2025-09-28CN121209205A2025-12-26霍建辉、张兵、向文胜、赵建龙、周浩杰、李双庆、袁会芳
15可形成倒梯形剖面的负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利公布CN202511392757.42025-09-26CN120972456A2025-11-18安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、吴滢骅、王玉龙、黄丞
16一种超厚膜负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511392756.X2025-09-26CN121050180A2025-12-02杨彦、张兵、向文胜、赵建龙、安杨翔、黄丞、吴滢骅、王玉龙
17近紫外波段通用的负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511392758.92025-09-26CN121142904A2025-12-16吴滢骅、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、王玉龙、黄丞
18用于单片晶圆水平电镀腔体结构实用新型授权CN202521327863.X2025-06-26CN224258826U2026-05-19颜祁郴、陈红文、唐建齐、冯侃宁、陈园园
19用于单晶圆水平电镀阴极工装夹具实用新型授权CN202521327862.52025-06-26CN224258834U2026-05-19颜祁郴、陈红文、唐建齐、冯侃宁、陈园园
20一种银蚀刻液组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510690819.32025-05-27CN120249979A2025-07-04胡青华、张兵、向文胜、赵建龙、蔡洁、王元元
21基于超纯硫酸钴的高稳定性电镀液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510658206.12025-05-21CN120250088A2025-07-04吴华宇、张兵、向文胜、赵建龙、张威
22一种用于先进封装的镀铜电镀液及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510634902.92025-05-16CN120443279A2025-08-08周家珠、张兵、向文胜、赵建龙、刘安、吕涛、廖伟
23化学放大型正性光刻胶、阵列工艺和OLED发明专利实质审查的生效、公布CN202510438392.82025-04-09CN120255283A2025-07-04周浩杰、张兵、向文胜、赵建龙、李双庆、袁会芳、李一帆、王浩冲、董仲舒、陆晓健
24用于高分辨率负性光刻胶的树脂的纯化方法和光刻胶发明专利实质审查的生效、公布CN202510432720.32025-04-08CN120289699A2025-07-11安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、张威、王玉龙、黄丞
25一种丙烯酸负性光刻胶及其制备方法与应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510151936.22025-02-11CN119987134A2025-05-13陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙
26降低晶圆应力的方法、晶圆及其制备方法发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510066128.62025-01-15CN119905417A2025-04-29程晋广、张兵、向文胜、赵建龙、刘斌
27感光性组合物、图形的制备方法、固化物和电子部件发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411597503.12024-11-11CN119179233A2024-12-24刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、洪勇波、马广元、胡泽明、檀轩
28感光性聚酰亚胺组合物、图形的制造方法、固化物和电子部件发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411597632.02024-11-11CN119264339A2025-01-07刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、刘壮、程晋广
29一种厚膜负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411532301.92024-10-30CN119414658A2025-02-11卞玉桂、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、陆晓健
30一种感光性组合物及其应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411509592.X2024-10-28CN119395943A2025-02-07刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、檀轩、程晋广
31感光性聚酰亚胺组合物、图形的制造方法、结构、部件及设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411439374.32024-10-15CN119225118A2024-12-31刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、刘壮
32负性感光树脂组合物、制备方法及光刻产品发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411424814.82024-10-12CN119270588A2025-01-07张威、张兵、向文胜、赵建龙
33光伏用电镀锡溶液发明专利实质审查的生效、公布CN202411317253.12024-09-20CN118880404A2024-11-01陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟
34显影液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410848708.62024-06-27CN118605093A2024-09-06邱柱、张兵、杜冰、张志强、梁豹、徐栋、赵建龙、向文胜
35锡银电镀液发明专利实质审查的生效、公布CN202410738621.32024-06-07CN118531462A2024-08-23陈春、张兵、向文胜、赵建龙
36一种化学放大型光刻胶及其制备方法、使用方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410610943.X2024-05-16CN118550155A2024-08-27陆晓健、安杨翔、杨彦、张兵、向文胜、赵建龙
37单组分半导体被动元件用油墨、方法、封装结构及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410522511.32024-04-28CN118256112A2024-06-28黄时雨、张燕红、王玉龙、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙
38一种半导体被动元件封装用油墨及其制备方法和应用发明专利授权CN202410505028.42024-04-25CN118325389B2026-03-24王玉龙、张燕红、黄时雨、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙
39一种封装用油墨及其制备方法和应用、器件及设备发明专利授权、公布CN202410222597.82024-02-28CN118109075B2025-10-03陈沁、张燕红、黄时雨、王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙
40不伤铜的铝蚀刻液发明专利实质审查的生效、公布CN202410087904.62024-01-22CN117904633A2024-04-19邱柱、杜冰、梁豹、张兵、向文胜、赵建龙
41IBC电池单晶硅制绒添加剂和腐蚀液、及制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311789033.42023-12-25CN117758373A2024-03-26赵建龙、王杰、张兵、向文胜
42一种IBC电池单晶硅及其碱抛光刻蚀添加剂、刻蚀液与刻蚀方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311791181.X2023-12-25CN117777863A2024-03-29赵建龙、王杰、张兵、向文胜
43一种负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311731529.62023-12-15CN117631454A2024-03-01卞玉桂、张志强、顾后荻、杨彦、安杨翔、陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙、徐栋
44可低温固化的聚酰亚胺树脂、光刻胶组合物及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311726813.42023-12-15CN117757070A2024-03-26洪勇波、刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广
45一种干膜去除液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311552838.72023-11-21CN117590708A2024-02-23邱柱、杜冰、张志强、徐栋、张兵、向文胜、赵建龙
46一种高分辨负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311504515.02023-11-13CN117406550A2024-01-16卞玉桂、顾后荻、张志强、杨彦、安杨翔、陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙、徐栋
47硅基改性的丙烯酸酯类化合物和用于封装有机发光二极管的组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202311399456.52023-10-26CN117447508A2024-01-26黄时雨、张燕红、王玉龙、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙
48一种纯锡电镀添加剂及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311381349.X2023-10-24CN117431593A2024-01-23陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟
49自感光型光敏性聚苯并噁唑前驱体树脂及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311188827.52023-09-14CN117285710A2023-12-26洪勇波、刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广
50一种用于去除铜层负性光刻胶的剥离液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202310914753.22023-07-25CN116859686A2023-10-10卞玉桂、杨彦、陆晓健、安杨翔、姚国强、张兵、向文胜、赵建龙

天眼查数据显示,艾森半导体材料(南通)有限公司成立日期2017年3月8日,法定代表人沈鑫,所属行业为化学原料和化学制品制造业,企业规模为中型,注册资本20000万人民币,实缴资本10000万人民币,注册地址为江苏省南通市开发区老洪港管理委员会通达路86-1号。艾森半导体材料(南通)有限公司共对外投资了0家企业,参与招投标项目7次,财产线索方面有商标信息0条,专利信息64条,拥有行政许可13个。

艾森半导体材料(南通)有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1微凸块用厚膜正性化学放大光刻胶组合物及其图案化方法发明专利发明专利申请公布、公布CN202611494908.12026-09-23CN123029749A2026-11-03王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、黄丞、吴滢骅
2一种含抗渗透剂的负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、发明专利申请公布、公布CN202611288914.12026-08-24CN122902166A2026-10-13吴滢骅、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、王玉龙、黄丞、刘超、张威
3一种负性光刻胶组合物及其应用、电镀图形的形成方法发明专利发明专利申请公布、公布CN202611288848.82026-08-24CN123010336A2026-10-30安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、张威、吴滢骅、王玉龙、黄丞、刘超
4一种直流电镀纳米孪晶铜的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610722094.62026-05-25CN122406316A2026-07-17张坤、张兵、向文胜、赵建龙
5一种用于制备纳米孪晶铜的电镀液以及电镀方法发明专利公布CN202610721721.42026-05-25CN122446292A2026-07-24张坤、张兵、向文胜、赵建龙
6酸性锌活化剂、铝基基材的活化方法和Wafer化学镍钯金工艺发明专利实质审查的生效、公布CN202610560238.22026-04-24CN122406200A2026-07-17王韵、张兵、向文胜、赵建龙、陈春
7一种闪蚀液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202610479278.42026-04-13CN122081949A2026-05-26蔡洁、张兵、向文胜、胡青华、王元元
8聚对羟基苯乙烯的制备方法、聚对羟基苯乙烯及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202610107816.72026-01-27CN121949659A2026-05-01吴华宇、张兵、向文胜、赵建龙、张威
9正性化学放大光刻胶组合物、微图形结构及制备方法发明专利公布CN202610068237.62026-01-19CN121657366A2026-03-13张威、张兵、向文胜、赵建龙、安杨翔、王玉龙
10负性感光树脂组合物、微结构、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511829933.62025-12-05CN121454866A2026-02-03张威、张兵、向文胜、赵建龙、刘铖铠、安杨翔
11电镀液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511770435.92025-11-28CN121321130A2026-01-13陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟
12正性化学放大型光刻胶及其制备方法、使用方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511696754.X2025-11-19CN121232531A2025-12-30王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、黄丞、吴滢骅
13一种正性光刻胶组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511428021.82025-09-30CN121187074A2025-12-23霍建辉、张兵、向文胜、赵建龙、陆晓健、袁会芳、周浩杰、李双庆、董仲舒
14一种正性光刻胶组合物及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511396221.X2025-09-28CN121209205A2025-12-26霍建辉、张兵、向文胜、赵建龙、周浩杰、李双庆、袁会芳
15可形成倒梯形剖面的负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利公布CN202511392757.42025-09-26CN120972456A2025-11-18安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、吴滢骅、王玉龙、黄丞
16一种超厚膜负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511392756.X2025-09-26CN121050180A2025-12-02杨彦、张兵、向文胜、赵建龙、安杨翔、黄丞、吴滢骅、王玉龙
17近紫外波段通用的负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511392758.92025-09-26CN121142904A2025-12-16吴滢骅、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、王玉龙、黄丞
18一种银蚀刻液组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510690819.32025-05-27CN120249979A2025-07-04胡青华、张兵、向文胜、赵建龙、蔡洁、王元元
19基于超纯硫酸钴的高稳定性电镀液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510658206.12025-05-21CN120250088A2025-07-04吴华宇、张兵、向文胜、赵建龙、张威
20一种用于先进封装的镀铜电镀液及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510634902.92025-05-16CN120443279A2025-08-08周家珠、张兵、向文胜、赵建龙、刘安、吕涛、廖伟
21化学放大型正性光刻胶、阵列工艺和OLED发明专利实质审查的生效、公布CN202510438392.82025-04-09CN120255283A2025-07-04周浩杰、张兵、向文胜、赵建龙、李双庆、袁会芳、李一帆、王浩冲、董仲舒、陆晓健
22用于高分辨率负性光刻胶的树脂的纯化方法和光刻胶发明专利实质审查的生效、公布CN202510432720.32025-04-08CN120289699A2025-07-11安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、张威、王玉龙、黄丞
23一种丙烯酸负性光刻胶及其制备方法与应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510151936.22025-02-11CN119987134A2025-05-13陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙
24降低晶圆应力的方法、晶圆及其制备方法发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510066128.62025-01-15CN119905417A2025-04-29程晋广、张兵、向文胜、赵建龙、刘斌
25感光性组合物、图形的制备方法、固化物和电子部件发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411597503.12024-11-11CN119179233A2024-12-24刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、洪勇波、马广元、胡泽明、檀轩
26感光性聚酰亚胺组合物、图形的制造方法、固化物和电子部件发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411597632.02024-11-11CN119264339A2025-01-07刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、刘壮、程晋广
27一种厚膜负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411532301.92024-10-30CN119414658A2025-02-11卞玉桂、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、陆晓健
28一种感光性组合物及其应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411509592.X2024-10-28CN119395943A2025-02-07刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、檀轩、程晋广
29感光性聚酰亚胺组合物、图形的制造方法、结构、部件及设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411439374.32024-10-15CN119225118A2024-12-31刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、刘壮
30负性感光树脂组合物、制备方法及光刻产品发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411424814.82024-10-12CN119270588A2025-01-07张威、张兵、向文胜、赵建龙
31光伏用电镀锡溶液发明专利实质审查的生效、公布CN202411317253.12024-09-20CN118880404A2024-11-01陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟
32显影液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410848708.62024-06-27CN118605093A2024-09-06邱柱、张兵、杜冰、张志强、梁豹、徐栋、赵建龙、向文胜
33锡银电镀液发明专利实质审查的生效、公布CN202410738621.32024-06-07CN118531462A2024-08-23陈春、张兵、向文胜、赵建龙
34一种化学放大型光刻胶及其制备方法、使用方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410610943.X2024-05-16CN118550155A2024-08-27陆晓健、安杨翔、杨彦、张兵、向文胜、赵建龙
35单组分半导体被动元件用油墨、方法、封装结构及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410522511.32024-04-28CN118256112A2024-06-28黄时雨、张燕红、王玉龙、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙
36一种半导体被动元件封装用油墨及其制备方法和应用发明专利授权CN202410505028.42024-04-25CN118325389B2026-03-24王玉龙、张燕红、黄时雨、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙
37一种封装用油墨及其制备方法和应用、器件及设备发明专利授权、公布CN202410222597.82024-02-28CN118109075B2025-10-03陈沁、张燕红、黄时雨、王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙
38不伤铜的铝蚀刻液发明专利实质审查的生效、公布CN202410087904.62024-01-22CN117904633A2024-04-19邱柱、杜冰、梁豹、张兵、向文胜、赵建龙
39IBC电池单晶硅制绒添加剂和腐蚀液、及制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311789033.42023-12-25CN117758373A2024-03-26赵建龙、王杰、张兵、向文胜
40一种IBC电池单晶硅及其碱抛光刻蚀添加剂、刻蚀液与刻蚀方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311791181.X2023-12-25CN117777863A2024-03-29赵建龙、王杰、张兵、向文胜
41一种负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311731529.62023-12-15CN117631454A2024-03-01卞玉桂、张志强、顾后荻、杨彦、安杨翔、陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙、徐栋
42可低温固化的聚酰亚胺树脂、光刻胶组合物及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311726813.42023-12-15CN117757070A2024-03-26洪勇波、刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广
43一种干膜去除液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311552838.72023-11-21CN117590708A2024-02-23邱柱、杜冰、张志强、徐栋、张兵、向文胜、赵建龙
44一种高分辨负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311504515.02023-11-13CN117406550A2024-01-16卞玉桂、顾后荻、张志强、杨彦、安杨翔、陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙、徐栋
45硅基改性的丙烯酸酯类化合物和用于封装有机发光二极管的组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202311399456.52023-10-26CN117447508A2024-01-26黄时雨、张燕红、王玉龙、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙
46一种纯锡电镀添加剂及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311381349.X2023-10-24CN117431593A2024-01-23陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟
47自感光型光敏性聚苯并噁唑前驱体树脂及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311188827.52023-09-14CN117285710A2023-12-26洪勇波、刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广
48一种用于去除铜层负性光刻胶的剥离液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202310914753.22023-07-25CN116859686A2023-10-10卞玉桂、杨彦、陆晓健、安杨翔、姚国强、张兵、向文胜、赵建龙
49半导体被动元件封装用油墨及其制备方法、器件及设备发明专利授权、公布CN202310910550.62023-07-24CN116751479B2025-09-26王玉龙、张燕红、黄时雨、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙
50一种低铝腐蚀显影液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202310730678.42023-06-20CN116661263A2023-08-29赵建龙、邱柱、杜冰、顾后荻、徐栋、丁保安、张兵、向文胜

天眼查数据显示,南通艾森芯材科技有限公司成立日期2026年2月11日,法定代表人沈鑫,所属行业为化学原料和化学制品制造业,企业规模为大型,注册资本20000万人民币,实缴资本,注册地址为江苏省南通市开发区老洪港管理委员会通达路86-1号。南通艾森芯材科技有限公司共对外投资了0家企业,参与招投标项目0次,财产线索方面有商标信息0条,专利信息3条,拥有行政许可0个。

南通艾森芯材科技有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1微凸块用厚膜正性化学放大光刻胶组合物及其图案化方法发明专利发明专利申请公布、公布CN202611494908.12026-09-23CN123029749A2026-11-03王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、黄丞、吴滢骅
2一种含抗渗透剂的负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、发明专利申请公布、公布CN202611288914.12026-08-24CN122902166A2026-10-13吴滢骅、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、王玉龙、黄丞、刘超、张威
3一种负性光刻胶组合物及其应用、电镀图形的形成方法发明专利发明专利申请公布、公布CN202611288848.82026-08-24CN123010336A2026-10-30安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、张威、吴滢骅、王玉龙、黄丞、刘超

天眼查数据显示,泰兴艾森芯耀科技有限公司成立日期2026年8月11日,法定代表人沈鑫,所属行业为科技推广和应用服务业,企业规模为大型,注册资本5000万人民币,实缴资本,注册地址为泰兴经济开发区锦江路6号综合运维楼3楼305。泰兴艾森芯耀科技有限公司共对外投资了0家企业,参与招投标项目0次,财产线索方面有商标信息0条,专利信息3条,拥有行政许可0个。

泰兴艾森芯耀科技有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1微凸块用厚膜正性化学放大光刻胶组合物及其图案化方法发明专利发明专利申请公布、公布CN202611494908.12026-09-23CN123029749A2026-11-03王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、黄丞、吴滢骅
2一种含抗渗透剂的负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、发明专利申请公布、公布CN202611288914.12026-08-24CN122902166A2026-10-13吴滢骅、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、王玉龙、黄丞、刘超、张威
3一种负性光刻胶组合物及其应用、电镀图形的形成方法发明专利发明专利申请公布、公布CN202611288848.82026-08-24CN123010336A2026-10-30安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、张威、吴滢骅、王玉龙、黄丞、刘超

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