新浪财经

东微半导体申请氮化镓HEMT器件相关专利,该器件兼具高阈值电压与低导通电阻特性

新浪证券-红岸工作室

关注

11月4日消息,国家知识产权局信息显示,苏州东微半导体股份有限公司申请一项名为“一种氮化镓HEMT器件”的专利。申请公布号为CN123021712A,申请号为CN202510543713.0,申请公布日期为2026年10月30日,申请日期为2025年4月28日,发明人王鹏飞、李瑶、刘培港、刘伟,专利代理机构北京品源专利代理有限公司,专利代理师朱彩银,分类号H10D30/47、H10D62/10、H10D62/824、H10D64/27。

专利摘要显示,本发明提供一种氮化镓HEMT器件,包括:基底层;位于所述基底层之上的第一沟道层;位于所述第一沟道层之上的第一势垒层;贯穿所述第一势垒层的凹槽,所述凹槽的底部延伸至所述第一沟道层内,所述凹槽的侧壁呈一定角度的倾斜;位于所述第一势垒层之上且覆盖所述凹槽的内表面的第二沟道层;位于所述第二沟道层之上的第二势垒层;位于凹槽上方且位于所述第二势垒层之上的栅极结构;分别位于所述栅极结构两侧的源极和漏极。本发明的氮化镓HEMT器件在栅极结构下方具有单沟道,在栅极结构两侧具有双沟道,使得氮化镓HEMT器件在具有高阈值电压的同时也具有低漂移区导通电阻。

东微半导是国内领先的高性能功率器件供应商,依托技术壁垒深耕中大功率半导体赛道,投资价值突出。公司成立于2008年9月12日,于2022年2月10日登陆上海证券交易所,注册及办公地址均位于江苏省苏州市。

东微半导是一家以高性能功率器件研发与销售为主的技术驱动型半导体企业,产品专注于工业及汽车相关等中大功率应用领域,申万行业分类隶属于电子-半导体-分立器件,同时覆盖专精特新、半导体产业、科创企业同股同权等概念板块。

2026年三季度,东微半导实现营业收入12.33亿元,在行业18家可比企业中排名第10,当期行业营收第一名士兰微达109.38亿元、第二名扬杰科技为71.83亿元,行业平均营收22.07亿元,行业营收中位数14.21亿元;同期实现净利润1.24亿元,行业排名第7,行业净利润榜首为扬杰科技的12.17亿元,第二名源杰科技录得10.24亿元,行业净利润平均数1.56亿元,行业净利润中位数9255.53万元。

指标类型 统计周期 公司数值 行业排名/总家数 行业头部企业数值 行业平均数 行业中位数
营业收入 2026年三季度 12.33亿元 10/18 士兰微109.38亿元、扬杰科技71.83亿元 22.07亿元 14.21亿元
净利润 2026年三季度 1.24亿元 7/18 扬杰科技12.17亿元、源杰科技10.24亿元 1.56亿元 9255.53万元

苏州东微半导体股份有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1一种功率半导体模块发明专利实质审查的生效、公布CN202610204670.82026-02-12CN122121710A2026-05-29张航宇、袁伟、汤乐
2一种IGBT器件发明专利实质审查的生效、公布CN202510964353.12025-07-14CN120857530A2025-10-28刘伟、林敏之
3IGBT器件发明专利实质审查的生效、公布CN202510964367.32025-07-14CN120857531A2025-10-28刘伟、林敏之
4一种氮化镓HEMT器件发明专利发明专利申请公布、公布CN202510543716.42025-04-28CN123021713A2026-10-30王鹏飞、李瑶、刘培港、刘伟
5一种氮化镓HEMT器件的制造方法发明专利发明专利申请公布、公布CN202510543714.52025-04-28CN123021693A2026-10-30王鹏飞、李瑶、刘培港、刘伟
6一种氮化镓HEMT器件发明专利发明专利申请公布、公布CN202510543711.12025-04-28CN123021710A2026-10-30王鹏飞、李瑶、刘培港、刘伟
7一种氮化镓HEMT器件发明专利发明专利申请公布、公布CN202510543713.02025-04-28CN123021712A2026-10-30王鹏飞、李瑶、刘培港、刘伟
8一种氮化镓HEMT器件发明专利发明专利申请公布、公布CN202510543712.62025-04-28CN123021711A2026-10-30王鹏飞、李瑶、刘培港、刘伟
9一种氮化镓HEMT器件的制造方法发明专利发明专利申请公布、公布CN202510543715.X2025-04-28CN123021694A2026-10-30王鹏飞、李瑶、刘培港、刘伟
10半导体器件的制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510451624.32025-04-11CN120282464A2025-07-08刘伟、王鹏飞、陈鑫
11一种氮化镓器件及其制造方法发明专利公布CN202510255703.72025-03-05CN122719117A2026-09-08李瑶、王鹏飞
12氮化镓器件发明专利实质审查的生效、公布CN202510008504.62025-01-03CN122340848A2026-07-03王鹏飞、刘伟、刘磊
13氮化镓器件发明专利实质审查的生效、公布CN202411808056.X2024-12-10CN122205905A2026-06-12王鹏飞、刘伟、刘磊
14氮化镓器件的制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411806778.12024-12-10CN122205894A2026-06-12刘伟、王鹏飞、刘磊
15一种氮化镓器件发明专利实质审查的生效、公布CN202411606016.72024-11-12CN122028458A2026-05-12王鹏飞、刘磊、刘伟
16一种氮化镓器件发明专利实质审查的生效、公布CN202411606015.22024-11-12CN122028457A2026-05-12王鹏飞、刘磊、刘伟
17一种氮化镓器件的制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411606391.12024-11-12CN122028447A2026-05-12王鹏飞、刘磊、刘伟
18一种氮化镓器件发明专利实质审查的生效、公布CN202411606018.62024-11-12CN122028459A2026-05-12王鹏飞、刘磊、刘伟
19一种IGBT器件的制造方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202411371344.32024-09-29CN119230399B2025-03-11刘伟、王鹏飞、陈鑫、刘磊
20IGBT器件的制造方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202411371340.52024-09-29CN119230398B2025-05-23刘伟、王鹏飞、陈鑫、刘磊
21IGBT器件的制造方法发明专利授权、公布CN202411371352.82024-09-29CN119230400B2025-10-17刘伟、王鹏飞、陈鑫、刘磊
22半导体超结功率器件发明专利实质审查的生效、公布CN202411330233.82024-09-24CN121240495A2025-12-30王鹏飞、缪进征、王睿、袁愿林
23一种IGBT器件发明专利实质审查的生效、公布CN202410911946.72024-07-09CN118866946A2024-10-29王鹏飞、林敏之
24碳化硅器件及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410120811.92024-01-29CN120435042A2025-08-05王鹏飞、范让萱
25一种IGBT器件及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311106025.52023-08-30CN119562568A2025-03-04刘磊、王鹏飞
26一种IGBT器件及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311105888.02023-08-30CN119562567A2025-03-04刘磊、王鹏飞
27碳化硅器件及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202310715907.52023-06-16CN119153497A2024-12-17王鹏飞、范让萱、刘磊、缪进征
28碳化硅器件及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202310715908.X2023-06-16CN119153498A2024-12-17王鹏飞、范让萱、刘磊、缪进征
29碳化硅器件及其制造方法发明专利公布CN202310367493.12023-04-07CN118782646A2024-10-15刘磊、王鹏飞
30半导体超结功率器件发明专利实质审查的生效、公布CN202211651724.32022-12-21CN118231464A2024-06-21王鹏飞、袁愿林、刘磊、王睿
31半导体超结功率器件发明专利实质审查的生效、公布CN202211649969.22022-12-21CN118231446A2024-06-21王鹏飞、袁愿林、刘磊、王睿
32半导体功率器件发明专利实质审查的生效、公布CN202211652272.02022-12-21CN118231465A2024-06-21王鹏飞、袁愿林、刘磊、王睿
33半导体功率器件及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202211271548.02022-10-18CN117954490A2024-04-30王鹏飞、毛振东、范让萱
34半导体超结功率器件及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202211271803.12022-10-18CN117954491A2024-04-30王鹏飞、袁愿林、王睿、刘磊、缪进征
35氮化镓器件及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202210960844.52022-08-11CN117637832A2024-03-01王鹏飞、林敏之、刘磊
36半导体功率器件的制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202210544438.02022-05-18CN117133643A2023-11-28缪进征、王鹏飞、范让萱
37氮化镓HEMT器件及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202210551950.82022-05-18CN117133794A2023-11-28王鹏飞、林敏之、刘磊
38半导体功率器件及其制造方法发明专利发明专利申请公布后的撤回、实质审查的生效、公布CN202210539346.32022-05-17CN117116976A2023-11-24王鹏飞、毛振东、范让萱
39半导体功率器件的制造方法及器件发明专利发明专利申请公布后的撤回、实质审查的生效、公布CN202210539330.22022-05-17CN117116748A2023-11-24王鹏飞、毛振东、范让萱
40IGBT器件的制造方法发明专利授权、公布CN202210367143.02022-04-08CN116936357B2025-10-03刘伟、王鹏飞、刘磊、龚轶
41IGBT器件及其制造方法发明专利授权CN202210366889.X2022-04-08CN116936626B2025-11-28范让萱、缪进征、王鹏飞、刘磊、龚轶
42半导体二极管及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202210363432.32022-04-07CN116936603A2023-10-24王鹏飞、王睿、林敏之、刘磊、龚轶
43半导体功率器件实用新型授权CN202220614408.82022-03-21CN217037151U2022-07-22王鹏飞、袁愿林、刘磊、王睿
44碳化硅器件及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202210280761.12022-03-21CN116825828A2023-09-29范让萱、缪进征、王鹏飞
45碳化硅器件的制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202210282247.12022-03-21CN116825621A2023-09-29范让萱、缪进征、王鹏飞
46半导体超结功率器件发明专利实质审查的生效、公布CN202210281110.42022-03-21CN116825829A2023-09-29王鹏飞、刘磊、袁愿林、王睿
47半导体功率器件发明专利实质审查的生效、公布CN202210279749.92022-03-21CN116827322A2023-09-29王鹏飞、袁愿林、刘磊、王睿
48碳化硅二极管及其制造方法发明专利发明专利申请公布后的撤回、实质审查的生效、公布CN202210276766.72022-03-21CN116825803A2023-09-29范让萱、缪进征、王鹏飞
49碳化硅器件终端结构及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202210281170.62022-03-21CN116825804A2023-09-29范让萱、缪进征、王鹏飞
50半导体二极管发明专利授权CN202111611956.12021-12-27CN116364748B2026-04-03刘磊、刘伟、袁愿林、王睿

加载中...