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华海清科申请磨削工作台相关专利，该磨削工作台可保障晶圆减薄时水平悬浮转动

新浪证券-红岸工作室

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10月31日消息，国家知识产权局信息显示，华海清科股份有限公司申请一项名为“一种磨削工作台和晶圆减薄设备”的专利。申请公布号为CN122975515A，申请号为CN202611348896.1，申请公布日期为2026年10月27日，申请日期为2022年12月27日，发明人刘远航、靳凯强，分类号B24B27/00、B24B37/10、B24B7/22、B24B41/06、B24B41/00、B24B41/02、B24B55/06。

专利摘要显示，本发明公开了一种磨削工作台和晶圆减薄设备，磨削工作台包括由上至下依次叠放的安装盘、支撑环和基座，安装盘用于承载吸盘，支撑环与基座固定连接，安装盘与基座中的驱动机构连接，支撑环内部设有气浮结构，以实现安装盘悬浮于支撑环时在驱动机构的驱动下转动，所述支撑环的上表面具有三个高度完全一致的最高点，使得安装盘抵接于支撑环上表面时保持水平。

华海清科是国内领先的CMP设备龙头企业，主营化学机械抛光设备，具备全产业链自主可控核心技术壁垒。公司成立于2013年4月10日，于2022年6月8日登陆上海证券交易所，注册及办公地址均位于天津市。

华海清科主营业务为从事半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务，申万行业分类隶属于电子-半导体-半导体设备板块，同时覆盖HBM概念、半导体设备、国资改革三大概念赛道。

2026年三季度，华海清科实现营业收入41.82亿元，在27家半导体设备行业可比公司中排名第6，高于行业32.99亿元的平均水平与13.34亿元的行业中位数，仅次于行业头部企业北方华创的314.67亿元、中微公司的103.26亿元；同期实现净利润10.02亿元，行业排名第8，同样高于行业7.46亿元的平均水平与1.85亿元的行业中位数，头部企业北方华创、中微公司同期净利润分别为51.94亿元、40.78亿元。

指标类型 统计周期 公司数值 行业排名/总样本数 行业头部企业数值 行业平均数 行业中位数
营业收入 2026年三季度 41.82亿元 6/27 北方华创314.67亿元、中微公司103.26亿元 32.99亿元 13.34亿元
净利润 2026年三季度 10.02亿元 8/27 北方华创51.94亿元、中微公司40.78亿元 7.46亿元 1.85亿元

华海清科股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1陶瓷深沟球轴承及半导体晶圆测速轮组件发明专利发明专利申请公布、公布CN202611455015.62026-09-18CN122960649A2026-10-23曹自立、郭佳奇、张泽飞、张欣雅
2一种化学机械抛光承载头、弹性膜、抛光设备及抛光方法发明专利发明专利申请公布、公布CN202611452506.52026-09-18CN122956361A2026-10-23张浩、陶冶、王宇、孟松林、王科
3一种具有导流结构的承载头、抛光设备及清洁方法发明专利CN202611452504.62026-09-18CN122956362A2026-10-23商勇超、孟松林、具自强、段富成
4晶圆边缘抛光方法、设备、存储介质及程序产品发明专利发明专利申请公布、公布CN202611452503.12026-09-18CN122956314A2026-10-23杨志冰、张全胜、卜磊、井彤彤
5晶圆干燥装置及晶圆清洗干燥的方法发明专利发明专利申请公布、公布CN202611419343.02026-09-14CN122943570A2026-10-20马闻泽、张勇、刘洋
6双层架构的抛光设备、加工方法、电子设备及存储介质发明专利CN202611400871.12026-09-10CN122876259A2026-10-09陈贺、曹自立、顾中兴
7一种晶圆抛光设备发明专利实质审查的生效、发明专利申请公布、公布CN202611400873.02026-09-10CN122876261A2026-10-09王同庆、田芳馨、任克营、吴英明、郭星剑、刘杰、王超
8一种承载头、化学机械抛光设备和抛光方法发明专利实质审查的生效、发明专利申请公布、公布CN202611400869.42026-09-10CN122876262A2026-10-09王同庆、具自强、孟松林、商勇超
9一种晶圆抛光装置、系统及方法发明专利发明专利申请公布、公布CN202611400868.X2026-09-10CN122895989A2026-10-13朱浩、王凯杰、张珂、卜磊
10一种机械手及其控制方法发明专利发明专利申请公布、公布CN202611400870.72026-09-10CN122910019A2026-10-13刘远航、鲍伟成、陈铁
11一种化学机械抛光的承载头、压力控制方法及抛光设备发明专利发明专利申请公布、公布CN202611400865.62026-09-10CN122896026A2026-10-13刘鑫博、李润豪、阮志权、金军、王科
12晶圆边缘处理装置及其方法发明专利实质审查的生效、公布CN202611264732.02026-08-20CN122803609A2026-09-22刘远航、陈铁、鲍伟成
13晶圆清洗装置、方法以及晶圆处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202611248679.52026-08-18CN122803616A2026-09-22刘晟桤、李长坤
14一种晶圆抛光方法及晶圆抛光设备发明专利发明专利申请公布、公布CN202611144717.22026-07-30CN122975524A2026-10-27李星、王佳平、王超、王广勇
15一种抛光液供给的闭环反馈与模型自适应系统及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202611105550.92026-07-24CN122769901A2026-09-18江鹏、宁桃、周斌
16一种抛光头、抛光单元和抛光设备发明专利实质审查的生效、公布CN202611079931.42026-07-21CN122584172A2026-08-18王同庆、程子政、孟松林、金军
17用于晶圆减薄的砂轮机构、晶圆减薄设备及控制方法发明专利实质审查的生效、公布CN202611034532.62026-07-13CN122518233A2026-08-07李小娟、付永旭、靳凯强、刘远航
18一种数据融合方法、电涡流测量系统、抛光单元和设备发明专利实质审查的生效、公布CN202611007390.42026-07-08CN122508513A2026-08-04吴英明、王科、田芳馨
19晶圆减薄方法、设备、存储介质及程序产品发明专利实质审查的生效、公布CN202611007389.12026-07-08CN122518151A2026-08-07尹国强、董跃巍、刘远航、李森、赵德文、王同庆、赵春生
20一种用于化学机械抛光的修整装置和修整方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610903952.72026-06-23CN122463047A2026-07-28鲁泽坤、陈映松、王春龙、崔云鑫、曹自立
21一种用于化学机械抛光的保持环和承载头发明专利实质审查的生效、公布CN202610883688.52026-06-18CN122518227A2026-08-07王同庆、陶冶、裴有志、王宇、孟松林、张洪蛟
22一种晶圆加工件的抓取翻转装置和晶圆加工设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610865594.52026-06-16CN122766303A2026-09-15王同庆、路新春、赵德文、叶范彪、刘志动
23一种抛光垫更换系统和方法发明专利公布CN202610768024.42026-05-30CN122442511A2026-07-24王科、陈映松、王怀锋、李长坤、成鹏
24一种抛光垫装卸装置及装卸方法发明专利公布CN202610768019.32026-05-30CN122480836A2026-07-31王科、陈映松、王怀锋、李长坤、成鹏
25一种抛光垫装卸装置、设备和方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610768020.62026-05-30CN122500627A2026-08-04王科、陈映松、王怀锋、李长坤、成鹏
26一种晶圆抛光方法、抛光单元和抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610705158.12026-05-21CN122248984A2026-06-19田云、辜声攀、杜新祥、马海港
27一种用于化学机械抛光的承载头和化学机械抛光设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610668707.22026-05-15CN122353463A2026-07-10程子政、孟松林、金军
28一种晶圆后处理装置和处理方法发明专利公布CN202610622639.62026-05-08CN122476855A2026-07-28路新春、马钰皓、王剑、李长坤、刘远航
29一种抛光带与晶圆缺口相对位置的检测装置和检测方法发明专利发明专利申请公布后的视为撤回、公布CN202610546525.82026-04-23CN122099962A2026-05-29周朝龙、辛宇航、郭垒、杨志冰
30晶圆翻转装置、晶圆翻转方法及晶圆处理设备发明专利授权CN202610432475.02026-04-03CN121969113B2026-08-07南奇童、张龙华、张鑫、申兵兵
31一种晶圆翻转用挠爪限位组件及晶圆翻转装置发明专利公布CN202611053020.42026-04-03CN122742681A2026-09-11南奇童、张龙华、张鑫、申兵兵
32晶圆翻转装置及晶圆处理设备发明专利发明专利申请公布、公布CN202611053018.72026-04-03CN122910017A2026-10-13南奇童、张龙华、张鑫、申兵兵
33抛光液分布预测方法、化学机械抛光方法及设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610366890.02026-03-24CN122033825A2026-05-15张力飞、王同庆、赵南皓
34晶圆加工系统、终点检测装置、方法及电子设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610348698.92026-03-20CN122253080A2026-06-23王同庆、王科、窦华成、田芳馨
35晶圆清洗装置及晶圆清洗方法发明专利授权CN202610230602.92026-02-27CN121752004B2026-05-15王同庆、陈贺、刘颖、曹自立、李长坤
36晶圆清洗用匀流结构、晶圆清洗装置及清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610663715.82026-02-27CN122514214A2026-08-04王同庆、陈贺、刘颖、曹自立、李长坤
37晶圆清洗装置及晶圆清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610663720.92026-02-27CN122535170A2026-08-07王同庆、陈贺、刘颖、曹自立、李长坤
38化学机械抛光设备、晶圆加工方法和化学机械抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610211064.92026-02-13CN122077513A2026-05-26路新春、李长坤、王科、李俊卿、王同庆
39晶圆化学机械抛光设备及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610203298.92026-02-12CN121870631A2026-04-17路新春、李长坤、王科、李俊卿、王同庆、赵德文
40化学机械抛光设备、晶圆加工方法和化学机械抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610204916.12026-02-12CN121946355A2026-05-01路新春、李长坤、王科、李俊卿、王同庆
41化学机械抛光设备、晶圆加工方法和化学机械抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610198479.72026-02-11CN121893158A2026-04-21路新春、李长坤、王科、李俊卿、王同庆
42晶圆处理装置、控制方法及化学机械抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610198513.02026-02-11CN122077512A2026-05-26路新春、李长坤、王科、李俊卿、王同庆
43一种化学机械抛光设备和抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610188222.32026-02-10CN121893155A2026-04-21刘晟桤、李俊卿、李长坤、王科
44晶圆化学机械抛光设备及基于晶圆状态的动态密封方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610188204.52026-02-10CN122058269A2026-05-19张海鹏、曹冠宁、范少文、王科、孙传恽、李长坤
45一种化学机械抛光设备和抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610182595.X2026-02-09CN121893154A2026-04-21霍恩彬、李长坤、李俊卿、申兵兵、王剑
46一种具有小体积气液分离箱的晶圆处理设备及晶圆处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610049289.92026-01-15CN121513539A2026-02-13陈贺、姚福聪、曹自立、李长坤
47抛光方法、电子设备及存储介质发明专利实质审查的生效、公布CN202610009656.22026-01-06CN121608055A2026-03-06王同庆、吴兴、李长坤、李俊卿、王科
48抛光装置和晶圆加工设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610009659.62026-01-06CN121848277A2026-04-14路新春、吴兴、王同庆、李俊卿、李长坤
49晶圆修边装置、晶圆加工设备及加工方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511925734.52025-12-19CN121729009A2026-03-24路新春、王同庆、赵德文、刘远航、请求不公布姓名、鲍伟成
50晶圆边缘动态修整方法和晶圆修边装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511925732.62025-12-19CN121848541A2026-04-14赵德文、高亚磊、李森、刘远航、欧阳亮

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