新浪财经

奕斯伟材料、奕斯伟硅片申请研磨定盘相关专利,解决定盘沟槽堵塞及相关研磨问题

新浪证券-红岸工作室

关注

5月15日消息,国家知识产权局信息显示,西安奕斯伟材料科技股份有限公司、西安奕斯伟硅片技术有限公司申请一项名为“一种研磨定盘及研磨设备、研磨方法”的专利。申请公布号为CN122008064A,申请号为CN202610347640.2,申请公布日期为2026年5月12日,申请日期为2026年3月20日,发明人章晓东,专利代理机构北京银龙知识产权代理有限公司,专利代理师尹倩,分类号B24B37/04、B24B37/11、B24B57/02。

专利摘要显示,本公开实施例提供一种研磨定盘及研磨设备、研磨方法,所述研磨定盘包括:定盘主体,具有相背设置的研磨面和底面,所述研磨面上分布有导流沟槽,在所述底面上开设有若干清洁槽,所述清洁槽贯通至所述研磨面、且与所述导流沟槽相连通;及密封组件,所述密封组件被配置为活动连接至所述定盘主体上,能够在密封状态和非密封状态之间切换;其中,在所述密封状态,所述密封组件封堵所述清洁槽,以在所述底面封闭所述清洁槽;在所述非密封状态,所述密封组件脱离所述清洁槽,以使所述清洁槽完全贯通。本公开的磨定盘及研磨设备、研磨方法可解决定盘沟槽堵塞所导致的研磨效果差,研磨时间变长,定盘寿命降低,沟槽清洁困难等问题。

西安奕材于2016年3月16日成立,2025年10月28日在上海证券交易所上市,注册及办公地址均为陕西省西安市。公司是国内专注12英寸硅片研发生产的企业,在半导体材料领域有一定技术优势。

西安奕材所属申万行业为电子 - 半导体 - 半导体材料,概念板块包含昨日高振幅、昨日高换手、新股与次新股,主营业务是专注于12英寸硅片的研发、生产和销售。

2025年,西安奕材营业收入26.49亿元,行业排名6/26,高于行业平均数19.89亿元和中位数11.14亿元,但远低于第一名有研新材的95.42亿元和第二名雅克科技的86.11亿元。主营业务中,测试片10.42亿元占比39.33%,抛光片9.84亿元占比37.15%,外延片6.1亿元占比23.03%。不过,公司净利润为 -7.38亿元,行业排名25/26,远低于行业平均数3265.85万元和中位数8178.71万元,也不及第一名雅克科技的10.3亿元和第二名江丰电子的4.14亿元。

西安奕斯伟材料科技股份有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1协同控制体微缺陷的直拉硅单晶生长方法、装置及硅晶圆发明专利公布CN202610368132.22026-03-24CN122013300A2026-05-12毛勤虎
2一种晶体生长控制方法、装置及单晶硅生长炉发明专利公布CN202610346716.X2026-03-20CN121931598A2026-04-28杨文武、宁沛娜
3一种研磨定盘及研磨设备、研磨方法发明专利公布CN202610347640.22026-03-20CN122008064A2026-05-12章晓东
4抛光机、抛光垫检测方法、装置、检测设备、产品及介质发明专利公布CN202610345452.62026-03-20CN122008069A2026-05-12杨鑫卓
5晶棒处理设备和晶棒处理方法发明专利公布CN202610120374.X2026-01-28CN121945472A2026-05-01郭宏雁、黄兆皓
6硅片刻蚀方法和硅片刻蚀设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610079762.82026-01-21CN121865865A2026-04-14贾志怡
7控制半导体单晶生长的方法、装置、及晶棒发明专利公布CN202512010297.02025-12-29CN121653837A2026-03-13杨文武、宁沛娜
8半导体制造设备,及其尾气处理方法、系统发明专利公布CN202512010197.82025-12-29CN121944738A2026-05-01杨文武、宁沛娜
9一种硅片缺陷处理方法、表面处理液、硅片及清洗装置发明专利公布CN202512012667.42025-12-29CN122028669A2026-05-12张申申
10拉晶工艺的功率控制方法、装置、设备及计算机存储介质发明专利公布CN202511996021.82025-12-26CN121675079A2026-03-17杨文武、宁沛娜
11双面抛光方法及设备、计算设备、介质及抛光晶圆发明专利公布CN202511961424.92025-12-24CN122008066A2026-05-12潘石、刘还平、白强强、王明
12一种晶圆的抛光方法以及晶圆发明专利公布CN202511956856.02025-12-23CN121941286A2026-04-28贾磊、杨新元、王明
13抛光头组件、化学机械抛光系统及晶圆的制备方法发明专利公布CN202511911677.52025-12-17CN121624982A2026-03-10王鹏、许涛、杨启
14晶圆检测设备和晶圆检测方法发明专利公布CN202511904874.42025-12-17CN121678673A2026-03-17薛博涛、陈光林、刘玉乾、黄兆皓
15单晶硅棒的生长控制方法、装置、介质以及单晶炉发明专利公布CN202511905877.X2025-12-17CN121951677A2026-05-01潘浩、崔源进、张鹏举
16一种晶圆清洁系统及方法发明专利公布CN202511907326.72025-12-17CN121969052A2026-05-01康建
17线切割装置及线切割取样方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511899233.42025-12-16CN121403584A2026-01-27王晋飞
18一种电阻率测试装置及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511897839.42025-12-16CN121917845A2026-04-24贺鹏
19清洗设备、清洗方法、清洗装置、控制设备、产品及介质发明专利公布CN202511866027.32025-12-11CN121665982A2026-03-13张树星、陈海龙、夏新超、左斌
20一种拉晶装置及拉晶方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511869249.02025-12-11CN121781273A2026-04-03闫龙、张鹏举、吴超、纪天平、李智超
21一种边缘缺陷的检测方法、装置、设备、系统及介质发明专利公布CN202511869589.32025-12-11CN122016796A2026-05-12周淼
22热场调节装置、单晶炉和热场调节方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511856243.X2025-12-10CN121344772A2026-01-16黄文洋
23一种籽晶倾斜检测方法及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511855413.22025-12-10CN121366283A2026-01-20彭标、孙洪涛
24一种晶棒切割装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511858998.32025-12-10CN121572470A2026-02-27王磊磊、霍慧文、刘士靖、刘倩
25一种砂轮参数确定方法及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511854835.82025-12-10CN121580854A2026-02-27李彤、兰洵、袁力军、李安杰、张婉婉
26一种拉晶收尾的控制方法及系统发明专利公布CN202511858477.82025-12-10CN121826878A2026-04-10纪天平、彭标、闫龙
27一种晶圆的检测方法、系统及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511859289.72025-12-10CN121908854A2026-04-21史铁柱、庞鲁、王龙
28半导体设备的检验方法、装置、设备、系统及介质发明专利公布CN202511854133.X2025-12-10CN121978104A2026-05-05李康康
29缺陷晶圆的拦截方法、装置、设备及介质发明专利公布CN202511842176.62025-12-09CN121969119A2026-05-01程瑜、贺鑫、胡一洲、万珣
30晶圆检测方法及相关装置发明专利公布CN202511837367.32025-12-08CN121665979A2026-03-13吕天爽
31晶棒长度的确定方法、装置、介质及晶体生长系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511840689.32025-12-08CN121874923A2026-04-17赵亮
32一种单片清洗装置及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511840630.42025-12-08CN121888884A2026-04-17左斌、陈海龙、王颖、张树星、夏新超
33硅片研磨的生产系统、控制方法和装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511840651.62025-12-08CN121870626A2026-04-17王琛、张宁轩、黄兆皓
34硅生长轴连接装置、硅生长系统及埚转偏差协同补偿方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511840788.12025-12-08CN121874924A2026-04-17彭标、孙洪涛
35一种晶圆的检测方法、系统及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511840660.52025-12-08CN121925097A2026-04-24史铁柱、庞鲁、王龙
36单晶硅的拉晶控制方法、装置及相关设备发明专利公布CN202511826516.62025-12-05CN121538725A2026-02-17杨松、赵亮
37绝缘体上硅衬底及其制备方法、射频绝缘体上硅晶圆发明专利实质审查的生效、公布CN202511830184.92025-12-05CN121908606A2026-04-21张博、兰洵、车宇航、王文娟、刘贵浩
38晶圆的清洗方法、设备、以及晶圆发明专利实质审查的生效、公布CN202511815254.32025-12-04CN121604750A2026-03-03党快乐、兰洵
39一种双面抛光方法、双面抛光设备及硅片发明专利实质审查的生效、公布CN202511817716.52025-12-04CN121870547A2026-04-17郭宏雁、陈祖庆
40硅片切割线痕判定方法及装置、电子设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511772774.02025-11-28CN121374876A2026-01-23王黎昱、陈曦鹏
41一种外延片边缘形貌补偿型晶圆双面抛光装置及方法发明专利公布CN202511770029.22025-11-28CN121535652A2026-02-17王俊夫
42晶圆处理方法及装置、电子设备发明专利公布CN202511775486.02025-11-28CN121548286A2026-02-17张城旗、苏艳宁、王黎昱
43晶圆检测与标识的设备、方法及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511775182.42025-11-28CN121865898A2026-04-14李乐杰、张钊、范东方、陈建勇
44半导体晶圆及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511779796.X2025-11-28CN121865669A2026-04-14刘贵浩、兰洵、车宇航、王文娟、张博
45一种用于晶棒生长的控制装置、方法以及拉晶炉发明专利公布CN202511762453.22025-11-27CN121556142A2026-02-24蔡媛媛
46化学机械抛光设备及抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511755819.32025-11-27CN121696842A2026-03-20王泽康
47改善晶圆平坦度的方法、装置、设备、系统及存储介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511766166.92025-11-27CN121756221A2026-03-31习恒
48一种基于重力自适应限位的晶圆边缘刻蚀装置及方法发明专利公布CN202511761617.X2025-11-27CN121843479A2026-04-10郝宁、程辰辰
49一种抛光垫及晶圆抛光方法发明专利公布CN202511766031.22025-11-27CN121821202A2026-04-10王俊夫、柴朝军
50硅片线痕检测方法、装置、存储介质及电子设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511767321.92025-11-27CN121888926A2026-04-17张申申

天眼查数据显示,西安奕斯伟硅片技术有限公司成立日期2018年2月9日,法定代表人刘还平,所属行业为计算机、通信和其他电子设备制造业,企业规模为中型,注册资本660000万人民币,实缴资本660000万人民币,注册地址为陕西省西安市高新区西沣南路1888号。西安奕斯伟硅片技术有限公司共对外投资了0家企业,参与招投标项目379次,财产线索方面有商标信息0条,专利信息1067条,拥有行政许可54个。

西安奕斯伟硅片技术有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1一种研磨定盘及研磨设备、研磨方法发明专利公布CN202610347640.22026-03-20CN122008064A2026-05-12章晓东
2抛光机、抛光垫检测方法、装置、检测设备、产品及介质发明专利公布CN202610345452.62026-03-20CN122008069A2026-05-12杨鑫卓
3晶棒处理设备和晶棒处理方法发明专利公布CN202610120374.X2026-01-28CN121945472A2026-05-01郭宏雁、黄兆皓
4一种硅片缺陷处理方法、表面处理液、硅片及清洗装置发明专利公布CN202512012667.42025-12-29CN122028669A2026-05-12张申申
5晶圆检测设备和晶圆检测方法发明专利公布CN202511904874.42025-12-17CN121678673A2026-03-17薛博涛、陈光林、刘玉乾、黄兆皓
6一种电阻率测试装置及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511897839.42025-12-16CN121917845A2026-04-24贺鹏
7一种拉晶装置及拉晶方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511869249.02025-12-11CN121781273A2026-04-03闫龙、张鹏举、吴超、纪天平、李智超
8一种边缘缺陷的检测方法、装置、设备、系统及介质发明专利公布CN202511869589.32025-12-11CN122016796A2026-05-12周淼
9热场调节装置、单晶炉和热场调节方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511856243.X2025-12-10CN121344772A2026-01-16黄文洋
10一种晶棒切割装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511858998.32025-12-10CN121572470A2026-02-27王磊磊、霍慧文、刘士靖、刘倩
11一种拉晶收尾的控制方法及系统发明专利公布CN202511858477.82025-12-10CN121826878A2026-04-10纪天平、彭标、闫龙
12一种晶圆的检测方法、系统及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511859289.72025-12-10CN121908854A2026-04-21史铁柱、庞鲁、王龙
13半导体设备的检验方法、装置、设备、系统及介质发明专利公布CN202511854133.X2025-12-10CN121978104A2026-05-05李康康
14缺陷晶圆的拦截方法、装置、设备及介质发明专利公布CN202511842176.62025-12-09CN121969119A2026-05-01程瑜、贺鑫、胡一洲、万珣
15硅片研磨的生产系统、控制方法和装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511840651.62025-12-08CN121870626A2026-04-17王琛、张宁轩、黄兆皓
16一种晶圆的检测方法、系统及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511840660.52025-12-08CN121925097A2026-04-24史铁柱、庞鲁、王龙
17一种外延片边缘形貌补偿型晶圆双面抛光装置及方法发明专利公布CN202511770029.22025-11-28CN121535652A2026-02-17王俊夫
18晶圆检测与标识的设备、方法及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511775182.42025-11-28CN121865898A2026-04-14李乐杰、张钊、范东方、陈建勇
19一种基于重力自适应限位的晶圆边缘刻蚀装置及方法发明专利公布CN202511761617.X2025-11-27CN121843479A2026-04-10郝宁、程辰辰
20一种抛光垫及晶圆抛光方法发明专利公布CN202511766031.22025-11-27CN121821202A2026-04-10王俊夫、柴朝军
21硅片线痕检测方法、装置、存储介质及电子设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511767321.92025-11-27CN121888926A2026-04-17张申申
22载具搬运方法、系统、装置及计算设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511764667.32025-11-27CN121925077A2026-04-24李迅、范东方、王贵石、张更
23一种具有集成式温度补偿的双面抛光系统及方法发明专利公布CN202511755203.62025-11-26CN121552239A2026-02-24王俊夫
24晶圆生产的控制方法、装置、设备、系统及存储介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511755100.X2025-11-26CN121865897A2026-04-14赵恒、范东方、陈建勇、张钊
25确定硅片放置方向的方法、装置、设备及介质发明专利公布CN202511722852.62025-11-21CN121837362A2026-04-10李康康
26一种包装袋折袋装置及方法发明专利公布CN202511711385.72025-11-20CN121536561A2026-02-17李毅波、苏建生、韩嘉豪、王奕杰
27在双面抛光中抑制晶圆划伤的系统、方法及双面抛光设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511711576.32025-11-20CN121589713A2026-03-03王俊夫
28晶棒拉速的优化方法、装置、设备及计算机存储介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511712015.52025-11-20CN121903418A2026-04-21秦浩、庞鲁、王龙、同嘉锡
29一种清洗装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511659712.92025-11-13CN121468400A2026-02-06蔡培锋、周勤学
30一种调整双面抛光设备参数的方法、装置和介质发明专利公布CN202511664476.X2025-11-13CN121832444A2026-04-10王俊夫、周勤学、王龙飞、杨轩、马驰
31用于检测物体表面缺陷的方法、装置、系统及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511655376.02025-11-12CN121740778A2026-03-27付子成、党志伟
32用于抛光载盘的预清洗装置、自适应抛光系统及清洗方法发明专利公布CN202511645965.02025-11-11CN121821244A2026-04-10王俊夫
33改善抛光垫平坦度的方法、双面抛光设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511602298.82025-11-04CN121132500A2025-12-16杨轩、柴朝军、马驰、王俊夫、邢东
34工艺腔室的判定方法及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511592258.X2025-11-03CN121443034A2026-01-30孙毅、韩喜盈
35用于抛光垫的检测及清洗装置、方法及抛光设备发明专利公布CN202511551473.52025-10-28CN121670508A2026-03-17马驰、杨轩、王俊夫
36校准系统及校准方法发明专利公布CN202511515728.22025-10-22CN121666003A2026-03-13杨舒乐
37硅片处理装置及方法发明专利公布CN202511499502.82025-10-20CN121665970A2026-03-13郭宏雁、郝胤祚、马成琛、冯智、赵栋、贾晓东
38研磨盘的平坦度测量装置及研磨盘的平坦度测量方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511479663.02025-10-16CN121083517A2025-12-09樊明溪、孙介楠、李龙、张鑫
39一种硅片加工方法及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511480666.62025-10-16CN121310863A2026-01-09蔡培锋、周勤学
40砂轮修整设备、砂轮修整方法、装置、设备、产品及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511418705.X2025-09-30CN121104902A2025-12-12朱海海
41抛光垫清洗装置及抛光设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511425890.52025-09-30CN121267779A2026-01-06王俊夫、马驰、杨轩
42一种硅片缺陷检测方法及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511418677.12025-09-30CN121358253A2026-01-16史铁柱、庞鲁、王龙、贺鹏、原宇乐
43晶圆的金属水平检测方法、装置、设备及计算机存储介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511426097.72025-09-30CN121510933A2026-02-10高坤、林可、李康康
44一种用于检测薄膜沉积异常的装置和方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511347420.12025-09-19CN121443032A2026-01-30程辰辰、郝宁
45硅片边缘刻蚀装置和硅片边缘刻蚀方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511297217.82025-09-11CN121149050A2025-12-16贾帅、王力
46外延反应腔室恢复方法和外延生长装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511274241.X2025-09-08CN121137798A2025-12-16韩喜盈、张海博、金柱炫、孙毅、刘凯
47晶圆加工设备的状态检测方法、装置、设备及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511219751.72025-08-28CN121275374A2026-01-06李昊、刘永亮、胡斌
48一种外延生长设备和外延生长方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511206362.02025-08-27CN121250545A2026-01-02马成琛、郭盾、贾晓东、郝胤祚
49一种拦截策略确定方法及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511189436.42025-08-25CN121051383A2025-12-02马强强、万珣
50一种标签检测方法、装置、设备及计算机存储介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511111982.62025-08-08CN121190956A2025-12-23叶森、冯智、郭盾、赵栋、郝胤祚

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI大模型基于第三方数据库自动发布,不代表新浪财经观点,任何在本文出现的信息均只作为参考,不构成个人投资建议。如有出入请以实际公告为准。如有疑问,请联系biz@staff.sina.com.cn。

加载中...