新凯来的展台上，五款以中国名山命名的产品成为核心看点：EPI（外延沉积）“峨眉山”、ETCH（蚀刻）“武夷山”、CVD（化学气相沉积）“长白山”、PVD（物理气相沉积）“普陀山”、ALD（原子层沉积）“阿里山”。这些名称背后是半导体制造工艺中至关重要的技术节点。以EPI“峨眉山”为例，外延层技术是先进制程和第三代半导体的关键工艺，直接影响芯片的性能与可靠性。而在国际市场上，EPI设备长期被应用材料（AMAT）、东京电子（TEL）等巨头垄断。
2025年3月26日，上海国家会展中心迎来了一场全球半导体行业的盛会——SEMICON China 2025。
在这场聚焦尖端技术的展会上，一家此前鲜少露面的中国公司成为全场焦点：深圳新凯来工业机器有限公司（以下简称“新凯来”）。
这家以“首次亮相即发布五款重磅产品”的姿态高调登场的公司，不仅展示了中国半导体装备领域的技术突破，更因其深厚的国资背景和产业资源，被业界视为“国家队”在高端制造领域的又一里程碑动作。
“名山”系列：技术硬核，剑指高端
新凯来的展台上，五款以中国名山命名的产品成为核心看点：EPI（外延沉积）“峨眉山”、ETCH（蚀刻）“武夷山”、CVD（化学气相沉积）“长白山”、PVD（物理气相沉积）“普陀山”、ALD（原子层沉积）“阿里山”。这些名称背后，是半导体制造工艺中至关重要的技术节点。
以EPI“峨眉山”为例，外延层技术是先进制程和第三代半导体的关键工艺，直接影响芯片的性能与可靠性。而在国际市场上，EPI设备长期被应用材料（AMAT）、东京电子（TEL）等巨头垄断。
新凯来的入局，标志着中国企业在这一高壁垒领域迈出了实质性步伐。同样，ALD“阿里山”设备针对原子级薄膜沉积，是5纳米以下先进制程的核心装备，目前全球市场由ASM和TEL主导，市占率合计超60%。新凯来的技术突破，或将改变这一领域的竞争格局。
更值得关注的是，这些设备的命名策略暗含深意：通过“名山”系列，新凯来既彰显了本土文化自信，又暗示其产品对标国际顶尖水平。例如，PVD“普陀山”直接指向该领域的全球龙头AMAT——后者占据全球PVD设备85%的市场份额。这种“正面交锋”的姿态，展现了新凯来在技术攻坚上的底气。
低调的专利大户：技术积累厚积薄发
尽管此次是首次公开亮相，但新凯来绝非半导体领域的“新兵”。
天眼查数据显示，新凯来工业机器成立于2022年，注册资本超10亿元；其母公司新凯来技术有限公司则成立于2021年，注册资本15亿元，由深圳市重大产业投资集团全资控股，而后者隶属深圳国资委。
从股权穿透可见，这是一家典型的“国资系”硬科技企业。
更引人注目的是其技术储备。2025年1月，新凯来工业机器申请了一项名为“反射结构、热辐射单元及加热装置”的专利（公开号CN 119620268 A），通过优化抛物面反射结构，显著提升了半导体加热设备的效率。
此前的2024年11月，新凯来技术还研发了“静电卡盘及工艺设备”（公开号CN 119069414 A），解决了晶圆加工中电荷释放速率慢的行业痛点。
这些专利并非孤立案例——据统计，新凯来近年来已累计申请数十项核心技术专利，覆盖光学、材料、工艺控制等关键环节。
这种“低调研发、高调落地”的策略，与其股东背景密不可分。新凯来技术董事长戴军身兼国家集成电路产业投资基金二期（俗称“大基金二期”）监事、中芯国际（深圳）董事等职，而深圳市重大产业投资集团另一高管黄秀章也担任中芯国际（深圳）监事。这意味着，新凯来的技术路线与国内顶级晶圆厂的工艺需求深度绑定，其研发方向直指国产替代的“卡脖子”环节。
产业链协同：从“单点突破”到“系统突围”
以薄膜沉积设备为例，北方华创已实现PVD、EPI工艺全覆盖，中微公司在ALD金属栅极设备上取得突破，而微导纳米则在ALD和CVD领域加速布局。
新凯来的“名山”系列，恰是在这一产业协同背景下诞生的差异化产品矩阵。
以CVD“长白山”为例，该设备需满足从28纳米到5纳米不同制程的薄膜沉积需求。根据QYResearch报告，中国CVD设备市场规模将在2030年突破50亿美元，但国产化率不足20%。
新凯来通过与国内FAB厂（晶圆制造厂）的合作，可将设备研发与工艺验证同步推进，缩短产业化周期。这种“研发-验证-迭代”的闭环模式，正是其相较于国际厂商的独特优势。
此外，新凯来的国资背景为其提供了战略定力。深圳市重大产业投资集团在公告中明确，新凯来技术的目标是“保障国内半导体及电子制造产业供应链安全”。
这与国家第三代半导体技术创新中心（深圳）等平台形成呼应——2024年11月，该中心综合平台建成，重点突破碳化硅、氮化镓等第三代半导体材料装备。
新凯来的EPI设备若能在第三代半导体领域实现量产，将直接助力中国在新能源汽车、光伏等赛道的产业升级。
尽管势头强劲，新凯来仍需直面严峻挑战。国际巨头在半导体设备领域的护城河不仅在于技术，更在于生态。
例如，AMAT的PVD设备已形成“设备-工艺-材料”的全套解决方案，并与台积电、三星等头部晶圆厂建立数十年合作。
新凯来若要打破这种生态壁垒，需在设备稳定性、量产一致性、售后服务等环节经受长期考验。
另一方面，国内市场的需求窗口正在打开。随着中芯国际、华虹半导体等企业扩产，以及长江存储、长鑫存储等存储芯片厂商的技术迭代，国产设备迎来验证机会。新凯来若能在中芯国际（深圳）等关联晶圆厂率先完成设备导入，将形成示范效应，加速市场渗透。
值得关注的是，新凯来的“国资+产业”模式或将成为其差异化竞争力。国家大基金二期近年来重点投资装备与材料领域，而深圳作为中国集成电路产业第三极（仅次于上海、北京），正通过政策扶持、产业链整合等方式打造半导体产业集群。
新凯来背靠这一体系，有望在资金、人才、客户资源上获得持续赋能。
在光刻机、EDA等极尖端领域仍受制于人的背景下，国产装备企业正从沉积、刻蚀等环节实现“迂回突破”。
本文作者：1 ic网，来源：1 ic网，原文标题：《深圳“国家队”，重磅出手半导体》
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