引进用于生产高端芯片的EUV光刻机，确实是包括中芯国际在内的众多国内芯片厂商一直以来的期盼。
早在两年前梁孟松的请辞信中，就曾经透露中芯国际已经在有序开展5nm和3nm工艺的关键大项技术研发，只待EUV光刻机的到来，就可以进入全面开发阶段。然而因为ASML也拿不到出货许可，中芯国际订购后将近4年，EUV光刻机迟迟不能发货，梁孟松的5nm和3nm制程研发也就不得不搁置。
可见EUV光刻机对于5nm以下芯片制造，在目前的技术路线下，仍然是一道难以绕开的门槛。如果说我们买不到EUV光刻机，要想实现5nm以下的芯片生产，另外一种途径，就是自己想办法造出EUV光刻机来。
然而，这样的途径短期内几乎也是无解的。最近光刻胶巨头JSR的CEO埃里克（Eric Johnson）在接受采访时认为，中国非常想发展自己的EUV（极紫外光刻）能力，以及适配这一领域的生态系统，但要做到这一点非常困难。他甚至表示，即使能拿到一份关于化学成分细节的论文，要在纯度、精度和大规模量产等方面实现成功，也是非常困难的。
言外之意非常明显，这就跟ASML此前说把图纸拿给我们也造不出EUV光刻机一样，他们也认为单靠我们自己的力量，是无力发展EUV光刻机的。这听起来很扎心，但在一定程度上却是现实，即使我们在技术上能够突破，但短期内也难以建立起完整的供应链来支持。
那么，要想建立属于自己的5nm以及更先进的高端芯片生产线，还是得回过头来，继续寻求获取EUV光刻机。最近ASML宣布新消息，该公司即将推出新款极紫外线（EUV）光刻机，这条新消息也再一次让我们看到了获得EUV光刻机的新的希望。
据外媒报道，半导体巨头ASML的下一代光刻机将在2023年上半年产出第一台样机，并且有5份试验机订单将在2024年交货，台积电、英特尔、三星这些顶级芯片厂商，预计将在2025年开始使用最新一代光刻机的量产机。
据了解，这是一种高数值孔径（高NA）EUV光刻机，体积是上一代EUV光刻机的1.3倍，能够进一步提升芯片制造的精度和效率。按照这个进度，3年之后，如果新一代NA EUV光刻机开始大量装备，现在的EUV光刻机就不再是最先进的光刻机了。
有网友据此推测，中芯国际买EUV光刻机至少还要再等3年。如果3年后针对EUV光刻机的出货限制被解除，中芯国际或能买到EUV光刻机。虽然并不是那时候最先进的光刻机，但也足以支撑5nm等先进工艺的进一步研发了。
因为按照惯例，光刻机的出货限制往往只针对最新一代的先进机器，新一代光刻机出来，老一代光刻机也就会逐渐放开。就像ASML现在可以正常向国内出货DUV光刻机，到时候ASML也一定会尽力争取放开目前正大量使用的EUV光刻机。毕竟既可以趁机赚钱，还能够对中国的光刻机研发企业形成制约，是一举多得的事情。
果真如此，对中芯国际等国内芯片厂商来说无疑是一件好事情。最近芯片短缺，很多厂商主要在扩展成熟产能，但先进工艺一直是中芯国际的短板，如果不能尽快跟上去，与台积电、三星等的差距必将越来越大。所以这个时候，国内芯片厂商更加不能放松获取高端光刻机的努力，哪怕是忍辱负重。
不过，再等3年后中芯国际真的能买到EUV光刻机吗？显然这里面还是存在诸多变数。一方面ASML的EUV光刻机一直处于供不应求的状态，将优先满足台积电等大厂；另外一方面，几年之后现在的EUV光刻机型号虽然不再是最先进的设备，但其中却很难绕开美国技术，能否自由出货并不是ASML说了算，还是得看美方的脸色。
毕竟就算是旧款的EUV光刻机，也是可以用来生产较高端芯片的。美方很可能进一步修改出货规则，再次阻挠EUV光刻机向中芯国际等企业出货。
所以，正如倪光南院士一直强调的，要致力于核心技术不受制于人。从长期来讲，还是必须搞属于自己可控的高端光刻机产业链，即使能够买到EUV光刻机了，这个方向也不能有丝毫动摇。
而自主光刻机的发展，不但可以让我们告别被“卡脖子”，也能够提升我们在芯片领域的话语权，降低包括光刻机设备在内的产业链成本。
