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刻蚀机:研究框架(115页)

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原标题:刻蚀机:研究框架(115页) 来源:半导体风向标

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封测 l OLED l LCD l 设备 l 材料 l IP l 功率 l SiC

终端多样化+硅含量提升,反向驱动全球850亿美元WFE市场。5G+AIoT赋能下,电劢汽车、新能源电等新兴创新市场高速发展,应用端硅含量大幅提升,带动全球半导体需求蓬勃迸发。终端应用多样化性增加,制造技术也同步分化,且技术迭代加快,下游产品定制化趋势明显。整体需求的迸发,与终端应用和技术的多样化发展,反向驱劢半导体设备需求与技术更迭,预计5G时代全球晶圆制造设备(WFE)市场规模将达到850亿美元量级。

刻蚀高价值量+刻蚀用量提升,带动全球刻蚀设备5%复合增速。刻蚀作为晶圆前道生产工艺中最重要的三类设备之一,价值量占比达到25%。此外,随着半导体器件结极复杂程度提升,尤其线宽缩小与结极3D化也横向拉动单一半导体器件刻蚀用量大幅提升。未来5年,全球刻蚀设备市场有望实现5%的复合年增速,预计2025年市场规模将达到155亿美元。

材料工艺持续变革,刻蚀壁垒持续加强。更小尺寸、新材料、新晶体管结等发革对晶囿刻蚀提出了更高的要求。选择性要求方面,多层薄膜刻蚀已成为刚需;准确性要求方面随着存储等器件持续垂直扩展,刻蚀既要在深宽比越来越高情况下保证形成最佳刻蚀轮廓,也要保持相同的特性关键尺寸以维持横向器件密度不变。

下游扩产+国产替代,国产厂商迎来黄金展期。近年来国产厂商产品技术实力快速跃进,市场开拓持续取得新进展,相较其他晶圆前道制造设备,刻蚀设备国产化率已接近20%,处于高位。随着国内晶圆厂、存储器厂商扩产,乘着市场和国产替代的东风,国产刻蚀设备厂商将迎来黄金发展期,建议关注相关产业链标的:

1、北方华创:半导体设备平台级龙头,刻蚀机领跑者

2、中微公司:介质刻蚀机领先者

3、屹唐半导体等:刻蚀机

   方正科技&电子团队  

陈杭

方正证券研究所

所长助理&科技首席分析师

陈  杭/ForBetterChina:北京大学硕士,所长助理&科技首席

吴文吉/13918329416:新加坡国立大学硕士,电子首席分析师、覆盖功率半导体,半导体材料,芯片设计等领域。

丛培超/18575565169:大连理工电子本硕,7年实业经验,其中美国高通3年,手机厂商4年,覆盖芯片设计领域。

李  萌/15202191589:华东师范大学金融硕士,2020年加入方正证券,覆盖半导体材料、封测、被动元器件领域。

吕卓阳/15000697069:澳洲国立大学硕士,2021年加入方正证券,覆盖泛半导体和消费电子等领域。

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